近期，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所順利完成新一代單場(chǎng)超大面積光刻機(jī)(650mmX650mm)研制，并通過(guò)用戶驗(yàn)收，各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。新一代超大面積光刻機(jī)采用2500W大功率高壓汞燈作為光源，利用離軸非球面反射鏡結(jié)合蠅眼透鏡勻光技術(shù)，在實(shí)現(xiàn)高光功率密度的同時(shí)，保證照明均勻性。同時(shí)，為解決大尺寸樣片調(diào)平及對(duì)準(zhǔn)等關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題，創(chuàng)新性地采用了低阻力氣浮調(diào)平技術(shù)以及可變倍率光學(xué)系統(tǒng)等先進(jìn)技術(shù)。經(jīng)測(cè)試，設(shè)備在650mm×650mm照明面積內(nèi)，光功率密度大于15mW/cm2，照明不均勻性≤5%，能夠一次性進(jìn)行650mm×650mm的大面積樣片加工，加工分辨力達(dá)到2μm，對(duì)準(zhǔn)精度±1μm。
該設(shè)備具有大曝光面積、高套刻對(duì)準(zhǔn)精度、高可靠性、操作方便、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)，不僅能夠在平板顯示產(chǎn)業(yè)進(jìn)行彩膜(CF)、隔柱(Spacer)以及薄膜晶體管(TFT)等核心部件加工，還能夠應(yīng)用于微電子、微機(jī)電、微光學(xué)領(lǐng)域進(jìn)行各種芯片、傳感器、大尺寸光柵、碼盤等微納元件加工及芯片封裝。同時(shí)該設(shè)備還能夠在宏觀加工領(lǐng)域，完成傳統(tǒng)機(jī)械加工方式難以實(shí)現(xiàn)的薄壁零件等高難度加工，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。
近日，首家用戶中科院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所在光電所舉行了設(shè)備驗(yàn)收會(huì)。西安光機(jī)所有關(guān)專家聽(tīng)取報(bào)告，并對(duì)超大面積光刻機(jī)設(shè)備進(jìn)行了現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試與實(shí)驗(yàn)，驗(yàn)證了各項(xiàng)性能指標(biāo)均滿足設(shè)計(jì)要求，對(duì)光電所研制水平表示了肯定和贊賞。新一代單場(chǎng)超大面積光刻設(shè)備，無(wú)論是曝光面積、照明不均勻性、光功率密度還是對(duì)準(zhǔn)精度等核心技術(shù)指標(biāo)都處于國(guó)際先進(jìn)水平。其成功研制對(duì)提升我國(guó)微細(xì)加工設(shè)備整體研制水平，促進(jìn)我國(guó)單場(chǎng)超大面積極端微細(xì)加工技術(shù)發(fā)展具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。
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