趙德剛研究員帶領的團隊長期致力于GaN基光電子材料和器件研究,對材料生長機理、材料物理和器件物理有自己的理解和認識,發(fā)現(xiàn)和解決了一系列激光器的關(guān)鍵問題:掌握了InGaN量子阱局域態(tài)調(diào)控和缺陷抑制方法,提高了發(fā)光效率;闡明了碳雜質(zhì)的補償機制,獲得了高質(zhì)量的p-GaN材料;設計出優(yōu)化的器件結(jié)構(gòu),減小了吸收損耗和電子泄漏;利用變程跳躍的物理機制,實現(xiàn)了良好的p-GaN歐姆接觸;解決了同質(zhì)外延中襯底翹曲的難題,采用MOCVD生長出高質(zhì)量的器件結(jié)構(gòu)。在此基礎上,與中科院蘇州納米所進行工藝合作,最終實現(xiàn)了GaN紫外激光器的室溫電注入激射。條寬為10 μm、腔長為600 μm的激光器閾值電流密度為1.6-2.0 kA/cm2,激射波長為392-395 nm,連續(xù)激射輸出光功率可達80 mW。圖1為紫外激光器的激射光譜,圖2為P-I曲線,圖3為紫外激光器激射時照到復印紙上形成的藍色熒光光斑(紫外光人眼看不見,紫外激光照到復印紙上會發(fā)出藍色熒光)。
該工作得到了國家重點研發(fā)計劃、國家自然科學基金、科學挑戰(zhàn)計劃、中科院百人計劃等多個項目的支持。
圖1 GaN基紫外激光器激射光譜
圖2 GaN基紫外激光器的P-I曲線
圖3 紫外激光器激射時照到復印紙上形成的藍色熒光光斑
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