高光束質量大功率半導體激光熔覆系統功率范圍涵蓋1000-4000w,采用國內首創(chuàng)的高光束質量大功率半導體激光器作為核心激光設備,該系統的半導體激光光束經特殊處理為平頂分布的矩形結構,在熔覆領域優(yōu)于光斑模式呈圓形的近高斯分布的光纖激光器、固體激光器,CO2激光器,具有熔覆效率高、速度快、能耗低、熔覆層深度分布均勻,熱影響區(qū)小的優(yōu)點,可實現大面積光斑的快速激光熔覆、廣泛應用于礦山機械、石油化工、發(fā)電站設備、航空冶金、工業(yè)模具等行業(yè)。
轉載請注明出處。