5月10日消息，據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，西安炬光科技股份有限公司申請一項(xiàng)名為“一種激光整形模組、點(diǎn)陣光學(xué)系統(tǒng)及激光應(yīng)用終端“，公開號CN118011649A，申請日期為2022年11月。

專利摘要顯示，本申請?zhí)峁┮环N激光整形模組、點(diǎn)陣光學(xué)系統(tǒng)及激光應(yīng)用終端，涉及激光技術(shù)領(lǐng)域，能夠提供形狀大小以及能量密度都具有高度一致性的點(diǎn)陣光斑，并且結(jié)構(gòu)緊湊，有效的減少光學(xué)元件的設(shè)置數(shù)量。激光整形模組，包括沿激光束的出光方向依次設(shè)置的整形光學(xué)元件、準(zhǔn)直光學(xué)組件以及平場聚焦透鏡陣列，激光束經(jīng)過整形光學(xué)元件對快軸方向的角空間的光束分束重組，平場聚焦透鏡陣列包括多個(gè)沿快軸方向依次排列設(shè)置的平場聚焦透鏡，每一個(gè)平場聚焦透鏡形成一個(gè)光通道，由準(zhǔn)直光學(xué)組件準(zhǔn)直出射的激光束經(jīng)過平場聚焦透鏡陣列聚焦后在目標(biāo)平面接收為與多個(gè)光通道相對應(yīng)的一維陣列光斑。