近些年，隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)時(shí)代的開啟，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)再度迎來了一波高速發(fā)展期。

要想占據(jù)5G和物聯(lián)網(wǎng)的制高點(diǎn)，那么首要解決的就是芯片問題。而要造出高端的芯片，得先解決光刻機(jī)難題。

世人皆知，全球知名的光刻機(jī)公司是在荷蘭。由于在美國的禁令之下，短期內(nèi)，我們無法獲得荷蘭的高端光刻機(jī)。

那么問題來了，即便眼下處于困境之中，國內(nèi)的一眾科技公司依然在全力發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，這是國人們看到了高端科技自主化的曙光！

此前有媒體爆料，中科院已成功推出了5nm光刻技術(shù)。為此獲得了網(wǎng)友們的一致好評

春公子發(fā)現(xiàn)，很多網(wǎng)友都認(rèn)為中科院推出的5nm光刻技術(shù)一出來，那么高端光刻機(jī)的問題就會“迎刃而解”？其實(shí)不然。

首先，光刻和光刻機(jī)肯定不會是一回事，光刻只是一項(xiàng)技術(shù)，而光刻機(jī)是一項(xiàng)成熟的產(chǎn)品。

《財(cái)經(jīng)》新媒體采訪了論文的通訊作者劉前后作了報(bào)道，劉前強(qiáng)調(diào)：“不用EUV光刻機(jī)就能造成5nm芯片是個(gè)誤讀”。

但是，中科院的這項(xiàng)5nm激光光刻研究是很激動人心的，畢竟這是屬于我國的技術(shù)。

另外，這次的研究使用的設(shè)備是我國獨(dú)立開發(fā)的，就是說有自主專利，將來如果試產(chǎn)成功，那么就不再受制于其他的國家了。

但有必要一說的是，荷蘭ASML的光刻機(jī)技術(shù)，可以說是全球最先進(jìn)的水平，也是之前投入了大量的資金研發(fā)得來的成果，在這個(gè)領(lǐng)域，中國與它之間，還有很遠(yuǎn)的距離，所以，規(guī)劃的時(shí)間也是2030年，也就是10年后。

我們得知道ASML的成功，不僅僅是因?yàn)楣饪虣C(jī)技術(shù)，而是全球化大生產(chǎn)的結(jié)果，在光刻機(jī)的80000個(gè)零部件中，荷蘭的ASML光刻機(jī)是有多國技術(shù)的綜合體，例如德國提供了特別先進(jìn)的機(jī)械工藝，還有世界級的蔡司鏡頭。美國提供了光源，正是來自先進(jìn)技術(shù)的提供，使得ASML公司在光科技術(shù)方面突飛猛進(jìn)的發(fā)展！

春公子和大家一樣，非常期望看到早日能解決光刻機(jī)的問題。但我們也需要更冷靜，更理智的思考。

目前高端芯片從研發(fā)出來，到保證優(yōu)良率，再到量產(chǎn)都是需要較長時(shí)間的。所以在一定的時(shí)間內(nèi)還是需要依靠荷蘭的ASML光刻機(jī)。

真的要實(shí)現(xiàn)芯片技術(shù)「彎道超車」，就必須繼續(xù)重視芯片領(lǐng)域，做好產(chǎn)學(xué)研結(jié)合，加大產(chǎn)業(yè)化環(huán)境建設(shè)，提高科研人員待遇。不知道諸位怎么看？