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深度解讀

光刻機照明系統(tǒng)透鏡表面膜層生長更加均勻

來源:文匯報2021-05-07 我要評論(0 )   

   ▲《中國激光》由中國科學院上海光學精密機械研究所主辦、中國激光雜志社出版 《中國激光》近期以封面文章報道了中國科學院上海光學精密機械研究所張偉麗研究組...

 

  ▲《中國激光》由中國科學院上海光學精密機械研究所主辦、中國激光雜志社出版

 

《中國激光》近期以封面文章報道了中國科學院上海光學精密機械研究所張偉麗研究組在大口徑大陡度透鏡表面膜層性能提升方面做出的一系列突破性進展,該研究采用寬角寬帶膜系和溫度-轉(zhuǎn)速綜合調(diào)控技術,解決了大口徑大陡度透鏡表面膜層傾斜沉積導致的膜層生長特性改變和均勻性難題。

  高精密光學系統(tǒng),尤其是光刻機系統(tǒng)中,通常會設計并使用大量小曲率半徑的大陡度透鏡以實現(xiàn)大數(shù)值孔徑,這對鍍制其表面的深紫外薄膜提出了極高的要求。

  與平面光學元件相比,大陡度透鏡表面上的薄膜生長特性更為復雜,需考慮膜層折射率非均勻性和厚度非均勻性等問題,而研究大陡度透鏡表面膜層均勻性,是提升其元件光學性能及穩(wěn)定性的前提。

  近十年來,張偉麗研究組圍繞提升大陡度透鏡表面膜層性能方面開展了系統(tǒng)研究,建立了大陡度透鏡表面膜層沉積角度變化計算模型,揭示了大陡度透鏡表面薄膜生長特性與沉積角度和曲率半徑的依賴關系,發(fā)展了基于溫度-轉(zhuǎn)速的折射率非均勻性調(diào)控技術,設計了寬角寬帶增透膜膜系,有效提升了大陡度透鏡表面膜層折射率均勻性,實現(xiàn)了大口徑大陡度復雜曲面薄膜元件光譜均勻性優(yōu)于公開報道水平。


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